ASML подняла мощность EUV до 1 кВт: +50% чипов к 2030

230

ASML довела мощность источника света в EUV-литографии до 1000 Вт. Компания рассчитывает, что это даст рост производительности сканеров примерно на 50% к 2030 году. Для нас, как для людей, которые следят за ценами на железо, это звучит просто: больше пластин в час — ниже себестоимость передовых чипов.

И речь не про лабораторный рекорд. Ведущий технолог ASML Майкл Пурвис подтвердил, что киловаттная система уже работает в условиях реального производства. Параллельно в компании говорят, что фундаментальных препятствий для роста до 2000 Вт они не видят.

Киловаттный EUV-источник ускорит выпуск пластин до 330 в час

Повышение мощности источника в EUV — это прямой способ увеличить пропускную способность. Чем ярче излучение, тем меньше времени нужно на экспонирование фоторезиста на пластине. Поэтому рост с прежних 600 Вт до 1000 Вт упирается не в маркетинг, а в физику процесса.

Продолжение после рекламы

По прогнозу вице-президента направления EUV-машин Тёна ван Гога, к 2030 году такие системы смогут обрабатывать около 330 пластин в час. Сейчас типичный уровень — примерно 220 пластин в час. Это и даёт те самые +50% к производительности на горизонте конца десятилетия.

Как ASML разогнала EUV: олово, плазма и 100 000 капель в секунду

Сама EUV-литография остаётся одной из самых сложных инженерных систем в индустрии. Источник света с длиной волны 13,5 нм получают так: мощный лазер бьёт по потоку расплавленного олова, олово превращается в плазму, и уже она излучает нужный спектр.

В новой схеме ASML удвоила частоту капель олова до 100 000 в секунду. И добавила схему с двумя лазерными импульсами для формовки капель. Это отличается от подхода, который используют в текущих моделях.

Профессор Университета штата Колорадо Хорхе Х. Рокка назвал достижение киловаттной мощности удивительным результатом. По его словам, он требует глубокого понимания множества технологий, которые сходятся в одном узле — источнике EUV.

Что это значит для рынка процессоров и видеокарт

Ключевой эффект — экономика. EUV-сканеры дорогие, а каждая минута их времени стоит денег. Если одна машина печатает больше пластин за час, фабрика получает больше годных кристаллов на том же парке оборудования. Это помогает снижать себестоимость передовых техпроцессов и удерживать смысл EUV для массового выпуска.

Для конечных пользователей связь непрямая, но реальная. Дешевле производство — легче масштабировать выпуск топовых CPU и GPU. А ещё проще переживать периоды, когда спрос резко растёт, и индустрия упирается в лимиты по выпуску.

И есть второй слой: конкуренция. Высокий инженерный барьер вокруг EUV помогает ASML держать дистанцию от новых игроков. В поле зрения — американские стартапы Substrate и xLight, которые тоже разрабатывают свои решения.

Коротко по цифрам: было и станет

Дальше всё упирается в темпы внедрения и в то, как быстро фабрики смогут перевести реальные линии на обновлённые источники. Но сам факт киловатта в производстве — сильный сигнал: EUV ещё есть куда расти по производительности, без смены всей концепции.