Содержание
Норвежский стартап Lace Lithography, в числе инвесторов которого есть Microsoft, привлек $40 млн (около 4 млн рублейBEUV (Beyond-EUV).
О сделке сообщило Reuters. Цель Lace — довести технологию до тестовой эксплуатации в пилотной фабрике к 2029 году.
Чем BEUV отличается от EUV и почему тут вообще гелий
Ключевая ставка Lace — уйти от ограничений фотонной литографии. В EUV-сканерах ASML используют излучение с длиной волны 13,5 нм. Это фундаментальная величина, и по мере уменьшения элементов на кристалле индустрии приходится усложнять процесс, в том числе через многократное экспонирование (multi-patterning).
У Lace другой подход: вместо фотонов они берут нейтральные атомы гелия и формируют атомный пучок. Компания заявляет ширину пучка 0,1 нм — это примерно ширина одного атома водорода и, по их оценке, в 135 раз уже, чем 13,5 нм у EUV по длине волны.
Логика простая: у атомов нет дифракционного предела в том виде, в каком он ограничивает оптику. Поэтому Lace утверждает, что сможет печатать элементы в 10 раз меньше, чем у современных литографических систем.
Что уже сделали и какие сроки компания называет
Lace Lithography основали в 2023 году. Сооснователи — CEO Bodil Holst, физик и сотрудник Университета Бергена, и Adrià Salvador Palau. Сейчас в компании более 50 сотрудников, распределённых между Норвегией, Испанией, Великобританией и Нидерландами.
Lace говорит, что у них уже есть прототипы. При этом в компании прямо закладывают длинный цикл: тестовый инструмент хотят запустить в пилотной фабрике к 2029 году. До массового производства, если оно вообще случится, пройдёт ещё больше времени.
Глава Lace Bodil Holst описывает конечную цель как печать пластин с «в итоге атомным разрешением». А научный директор по литографии в Imec Джон Питерсен в разговоре с Reuters оценил потенциал подхода как возможность уменьшить транзисторы и другие элементы на порядок, до «почти невообразимого» уровня.
Контекст: кто ещё пытается придумать альтернативу ASML
- Substrate: разрабатывает источники света для EUV или рентгеновской литографии на базе ускорителей частиц.
- xLight: тоже делает ускорительный источник для EUV/X-ray и, по данным Reuters, получила $150 млн господдержки в США (около 15 млн рублей
- Canon: в сентябре 2024 года отправила первую установку nanoimprint lithography в Texas Institute for Electronics.
- Prinano (Китай): поставила свою nanoimprint-систему на внутренний рынок.
На этом фоне подход Lace выделяется тем, что он вообще не про электромагнитное излучение. И тут же возникает главный практический риск: под атомный пучок нет готовой «обвязки» из техпроцессов и цепочек поставок, которые десятилетиями строились вокруг оптики.
Сама Lace называет ближайшей большой вехой запуск тестового инструмента в пилотной фабрике к 2029 году.
