Содержание
ASML объявила, что Intel Foundry начала использовать литографию High NA EUV на техпроцессе Intel 18A. Технологию применяют при выпуске части процессоров Intel Core Ultra Series 3, известных под кодовым именем Panther Lake.
Это не лабораторный прогон и не демонстрационная пластина для красивого слайда. Intel применяет High NA EUV в производственной среде, на отдельных слоях реальных логических чипов. ASML называет этот этап проверкой готовности технологии к массовому производству.
High NA EUV применили на отдельных слоях Panther Lake
Intel Core Ultra Series 3 строятся на Intel 18A, а High NA EUV используют не на всём кристалле, а для конкретных слоёв продукта. Такой подход даёт Intel и ASML данные по настройке систем, времени безотказной работы и внедрению технологии в фабричный процесс.
Для читателя, который помнит переход от DUV к EUV, логика знакомая. Новую литографию сначала заводят на ограниченный набор операций. Инженеры смотрят на стабильность, наложение слоёв, производительность оборудования и дефекты. Потом технологию расширяют, если экономика и выход годных сходятся.
High NA EUV — следующий шаг после обычной EUV-литографии. ASML продвигает её как способ печатать более мелкие и плотные структуры. Глава ASML Кристоф Фуке связал переход с ростом разрешения и лучшим контролем процесса. По его словам, технология поможет ускорить развитие ИИ и других новых направлений.
Intel первой отгружает логические чипы с High NA EUV
Intel Foundry заявляет о первом в отрасли массовом выпуске логического продукта с применением High NA EUV. Формулировка аккуратная: речь идёт о части продуктов и выбранных слоях, а не о полном переводе Panther Lake на новую литографию.
Для Intel это ещё и демонстрация возможностей контрактного направления. Компания продвигает Intel 18A как один из ключевых узлов для будущих клиентов Intel Foundry. High NA EUV в этом контексте помогает показать, что техпроцесс не живёт только на бумаге и внутренних презентациях.
Нага Чандрасекарян, исполнительный вице-президент и глава Intel Foundry, сказал, что Intel квалифицировала опцию High NA EUV на выбранных слоях Intel 18A. По его словам, существующий парк инструментов даёт клиентам больший выпуск продукции, пока Intel готовит будущие варианты для следующих узлов.
- Продукт: Intel Core Ultra Series 3, кодовое имя Panther Lake
- Техпроцесс: Intel 18A
- Литография: High NA EUV на выбранных слоях
- Статус: массовое производство логических чипов
TWINSCAN EXE:5200B уже прошла приёмку у Intel
В 2024 году Intel и ASML завершили интеграцию первой коммерческой High NA EUV-системы на исследовательской площадке Intel в Хиллсборо, штат Орегон. Теперь история дошла до производственных партий, а не только до R&D-стенда.
Intel Foundry также первой установила и прошла приёмочные испытания системы второго поколения TWINSCAN EXE:5200B. Она развивает TWINSCAN EXE:5000, увеличивает выпуск, улучшает точность совмещения слоёв и получила доработанный источник света.
Для индустрии это важная, но не мгновенная смена эпохи. High NA EUV требует новых процессов, контроля и отладки в фабричном цикле. ASML и Intel прямо говорят, что нынешнее внедрение нужно для настройки оборудования, аптайма и подготовки к более широкому применению.
ASML опубликовала заявление 15 июля 2026 года. В нём Intel Foundry названа первой компанией, которая отгружает массовый логический продукт с использованием High NA EUV.
