Содержание
Китайская иммерсионная DUV-литография вышла из лабораторной стадии: шанхайская компания начала ограниченный выпуск собственных сканеров для производства чипов. По данным The Information, в 2026 году она планирует поставить пять систем, а к 2027 году довести выпуск примерно до 20 машин.
Цифры выглядят скромно, если сравнивать с ASML. Но для литографии это не история про быстрый запуск конвейера. Иммерсионный DUV-сканер — машина, где оптика, лазер, механика и химия работают с микронной точностью.
Пять DUV-сканеров в 2026 году — это только старт
Шанхайский производитель пока не раскрывает название и характеристики установки, но уже определил первых клиентов: SMIC, CXMT и Hua Hong. Эти компании должны встроить китайские DUV-машины в свои производственные линии и проверить их не на презентациях, а на реальных пластинах.
План на пять систем в 2026 году не тянет на массовый рынок. Зато он показывает другое: Китай пытается закрыть один из самых сложных участков полупроводниковой цепочки своими силами. Речь не про обычный станок, который можно заменить аналогом за квартал.
Иммерсионная DUV-литография работает с глубоким ультрафиолетом на длине волны 193 нм. Свет генерирует аргон-фторидный эксимерный лазер ArF. Между последней линзой и пластиной находится слой сверхчистой воды. Он меняет оптическую среду и помогает перенести рисунок схемы на кремниевую пластину с более высокой плотностью.
На бумаге схема звучит почти просто. На практике ASML годами доводила такие системы до промышленной стабильности. У литографа важна не только минимальная норма, но и повторяемость, точность совмещения слоев, uptime и количество пластин в час.
ASML пока впереди по масштабу и скорости пластин
Для сравнения масштаба достаточно одной цифры: ASML в прошлом году отгрузила 131 иммерсионный DUV-сканер. Китайский план примерно на 20 машин к 2027 году выглядит малым, но это уже промышленная серия, а не единичный инженерный образец.
| Параметр | Китайский immersion DUV | ASML TWINSCAN NXT:2150i |
|---|---|---|
| Производство | Ограниченная серия в Шанхае | Серийные поставки ASML |
| Поставки | 5 систем в 2026 году, около 20 к 2027 году | 131 immersion DUV-система за прошлый год |
| Производительность | Не раскрыта | Более 310 пластин в час |
| Техпроцессы | Не раскрыты | 7 нм и 5 нм-класс при multi-patterning |
| Первые клиенты | SMIC, CXMT, Hua Hong | Крупные мировые фабрики |
Главный пробел — производительность. Если китайский сканер обрабатывает заметно меньше пластин в час, фабрика получит узкое место. Для опытных партий это терпимо. Для коммерческого выпуска процессоров или памяти разница сразу превращается в себестоимость.
У ASML флагманский DUV-сканер TWINSCAN NXT:2150i обрабатывает более 310 пластин в час. При многократном экспонировании такие машины используют для 7 нм, а SMIC применяет DUV и для 5 нм-класса. Цена — сложность процесса и большее число технологических шагов.
Для CXMT хватит зрелых норм, SMIC нужна плотность
Для CXMT самый тонкий техпроцесс не критичен, потому что DRAM часто выпускают на зрелых нормах около 10 нм. Там важнее стабильный выход годных кристаллов, плотность ячеек памяти и повторяемость процесса на больших объемах.
SMIC находится в более жесткой позиции. Если компания захочет использовать новый инструмент для узла N+3 5 нм-класса, ей придется выжимать плотность не только из оптики. В ход может пойти self-aligned quadruple patterning, или SAQP. Это метод с несколькими этапами формирования рисунка, который повышает разрешение без EUV.
У такого подхода есть цена. Каждый дополнительный шаг увеличивает время производства и риск брака. Поэтому вопрос не только в том, может ли сканер нарисовать нужную геометрию. Фабрике нужно делать это тысячи раз подряд, с приемлемым выходом годных чипов.
Пока у китайской машины нет публичных данных по пластинам в час, overlay-точности и поддерживаемым нормам. Из подтвержденных цифр остаются план поставок на 27 июля 2026 года: пять систем в этом году и около 20 иммерсионных DUV-сканеров к 2027 году.
